本周行业报告披露政策新动向,动漫女人物去掉所有服装的样子：还原纯真与自然之美

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在动漫的世界里，女性角色总是以各种华丽的服饰和精致的造型出现，她们或优雅、或可爱、或性感，成为了无数动漫迷心中的完美形象。然而，当我们将这些角色去掉所有服装，还原她们最真实的一面时，我们会发现，原来她们也有着纯真与自然之美。 首先，去掉服装的动漫女人物，让我们看到了她们的真实身材。在动漫作品中，女性角色的身材往往是经过美化的，她们拥有完美的比例和曲线，这在现实生活中很难见到。然而，当我们去掉服装，还原她们的真实身材时，我们会发现，她们并没有那么夸张，反而更加贴近现实。这种真实感让我们对动漫女性角色有了更深的理解，也让我们看到了她们在现实生活中的可能性。 其次，去掉服装的动漫女人物，让我们看到了她们的自然之美。在动漫作品中，女性角色的服饰往往是为了突出她们的美丽而设计的，而在这个过程中，她们的自然之美往往被掩盖。然而，当我们去掉服装，还原她们最真实的一面时，我们会发现，她们的自然之美更加动人。她们的面部表情、肢体语言、甚至是她们的皮肤纹理，都透露出一种不加修饰的自然之美。 此外，去掉服装的动漫女人物，也让我们看到了她们的性格特点。在动漫作品中，女性角色的性格往往与她们的服饰和造型紧密相连。然而，当我们去掉服装，还原她们最真实的一面时，我们会发现，她们的性格特点更加鲜明。她们或活泼、或内向、或独立，这些性格特点在去掉服装后更加突出，让我们对她们有了更深的了解。 当然，去掉服装的动漫女人物也会带来一些争议。有人认为，这样的画面过于暴露，不符合社会主义核心价值观。然而，我们应当理性看待这个问题。去掉服装的动漫女人物，并非是为了展示她们的性感，而是为了还原她们的真实之美。这种真实之美，是动漫作品中女性角色所不具备的，也是现实生活中我们所追求的。 在去掉服装的动漫女人物中，我们还可以看到一种精神力量。这种力量来自于她们对自我价值的追求，来自于她们对生活的热爱。她们在去掉服装后，依然保持着自信和优雅，这种精神力量值得我们学习和借鉴。 总之，去掉所有服装的动漫女人物，让我们看到了她们的真实之美。这种美，既包括她们的真实身材，也包括她们的自然之美和性格特点。同时，这种美也蕴含着一种精神力量，激励着我们追求自我价值，热爱生活。在今后的动漫作品中，我们期待看到更多去掉服装的动漫女人物，让我们共同感受这种真实与自然之美。

很少有公司比阿斯麦控股 ( ASML Holding ) 更能从人工智能热潮中获益。这家荷兰公司几乎垄断了用于生产数据中心高性能芯片的专用光刻机市场，而这一业务正以前所未有的速度蓬勃发展。ASML 的美国存托凭证在过去一年上涨了 11%。然而，由于受到无法保证在 2026 年保持增长 。该公司面临一个大问题。ASML 最新的极紫外光刻 ( EUV ) 设备大客户数量有限，而目前，其中一家——台积电 ( TSMC ) ——在先进芯片制造领域占据主导地位。这令人担忧，因为当芯片制造商争夺霸主地位，不断升级设备以保持领先地位时，ASML 才能蓬勃发展。ASML 目前正在销售新一代 " 高数值孔径 " EUV 机器，即 High NA EUV。它是 独家供应商 并预计这些工具将在未来十年内实现更小的芯片。然而，每台这些工具的成本可能超过 4 亿美元。台积电显然对这个价格犹豫不决。一位高管在 5 月份的一次行业会议上表示，这家芯片制造商相信可以延长其现有 EUV 光刻机的使用寿命。这家台湾公司在一封电子邮件声明中告诉《巴伦周刊》： " 当高数值孔径 EUV 技术成熟并准备好为我们的客户带来最大利益时，台积电将部署该技术。"问题归结于前期成本与运行成本。光刻系统的数值孔径衡量的是其收集光线和解析细节的能力。数值孔径越高，单次曝光就能在芯片上打印出极其复杂的结构，即所谓的单次曝光。数值孔径越低，机器需要更多步骤才能完成同样的操作，即所谓的多次曝光，但需要花费更多时间，并且引入缺陷的可能性也更大。到目前为止，多重图案技术似乎占据了上风。巴克莱分析师西蒙 · 科尔斯预计，ASML 2026 年将仅出货三台高数值孔径 ( High NA ) 光刻机，低于 2025 年的五台，而且在 2028 年之前不太可能实现大规模应用。他对该股的评级为 " 持有 "。ASML 拒绝透露其预测的 High NA 出货量，但表示其所有 EUV 客户都已承诺采用该技术。ASML 发言人在一封电子邮件声明中告诉《巴伦周刊》 ： " 高数值孔径可以以经济高效的方式释放单次曝光的优势。这些优势包括降低工艺复杂性、缩短周期、提高潜在良率等等。"英特尔看起来是 ASML 的一大希望。这家美国芯片公司目前正在为一个历史性的错误付出代价：它未能及时过渡到使用这家荷兰公司的 EUV 光刻机，导致台积电在更先进的芯片领域抢占先机。英特尔似乎有机会纠正过去的错误。前首席执行官帕特 · 基辛格去年表示，英特尔购买了两台 High NA 机器，这是其在 AI 芯片和其他先进处理器制造业务方面超越台积电的战略的一部分。但在英特尔实力减弱之际，这也带来了巨大的财务风险。Futurum Group 分析师 Ray Wang 表示："High NA 的采用并非（对英特尔而言）唯一的决定因素。成功取决于多种因素，包括掌握 EUV 使用的能力、良率学习曲线、生态系统准备情况、整体产能、成本竞争力，以及在内部产品之外获得广泛客户群的能力。"对于英特尔来说，争取芯片的外部大客户尤其困难。股东们曾希望，英特尔的 18A 制程（据报道，英伟达和博通正在测试该制程）能够帮助其从台积电手中夺回技术领先地位。然而，英特尔淡化希望赢得任何主要外部客户的进展，并表示 18A 工艺将主要用于内部产品，至少在初期是这样。英特尔还表示，如果无法赢得重要客户，可能会 " 暂停或停止 " 其下一代 14A 工艺。这可能意味着英特尔成为台积电强劲竞争对手的雄心壮志以及美国拥有本土半导体冠军企业的希望破灭。近期，英特尔将获得英伟达 50 亿美元投资的消息似乎激发了市场对其芯片制造前景的担忧。受此消息影响，ASML 股价上涨逾 6%。然而，英伟达首席执行官黄仁勋反复强调 避免回答 他称赞了台积电的能力，并询问他的公司未来是否会使用英特尔的制造设施。独立技术分析师尼古拉斯 · 巴拉特 ( Nicolas Baratte ) 表示：" 台积电生产的是世界上最复杂的芯片，也就是英伟达的 GPU。如果台积电告诉你我们不需要（高数值孔径 EUV），那么很难想象英特尔为什么需要一台比台积电复杂得多的机器来制造复杂度低得多的芯片。"英特尔向《巴伦周刊》证实，其位于俄勒冈州的主要研发基地拥有两台 High NA 机器，但拒绝透露何时打算将它们用于大规模生产。如果 ASML 不能依靠英特尔在逻辑芯片业务上说服台积电，那么一个可能富有成果的领域就是存储芯片。在采用最新光刻技术方面，存储芯片行业落后于逻辑芯片行业。这部分是由于该行业专注于低成本制造，同时也是因为存储芯片层堆叠技术能够提高密度和性能，从而减少了对 EUV 光刻机的需求。有迹象表明，这种情况可能会改变。高带宽内存 ( HBM ) 芯片是英伟达等公司最新 AI 处理器的必要组件，目前业界正在竞相生产最先进的 HBM 产品。韩国 SK 海力士是现任领导人 该公司本月早些时候表示，已经组装了一套 High NA 系统，并声称这是业内首个实现量产的系统，理由是需要为极端扩展和高密度要求做好准备。这可能会给同样来自韩国的三星电子和美国美光科技公司带来挑战。三星发言人在发给《巴伦周刊》的电子邮件声明中表示，该公司于今年 2 月采用了 High NA 系统，并将其用于其内存芯片业务和外部客户的芯片制造。美光公司尚未回应就其计划置评的请求。ASML 的例子提醒我们，如果供应商受制于某个主要客户，仅仅拥有最好的技术并不能保证成功。最终，ASML 的高数值孔径光刻机将成为必需品，但投资者可能会面临一段令人沮丧的等待，直到整个行业准备好为未来买单。参考链接：https://www.barrons.com/articles/asml-stock-tsmc-intel-ai-boom-7a4cd16e