今日监管部门传递新研究成果,办公室里的干湿界限：我们能跨越吗？

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在繁忙的都市生活中，办公室成为了我们每天度过大部分时间的地方。在这里，我们不仅要面对工作压力，还要处理各种生活琐事。其中，关于“能不能在办公室干湿你”的问题，就成为了许多人关注的焦点。那么，在办公室这个特定的空间里，我们究竟能不能跨越干湿界限，实现和谐共处呢？ 首先，我们要明确“干湿你”的含义。在这个语境下，“干湿你”指的是在办公室内处理个人卫生问题，如洗手、换衣服等。而在传统的观念中，办公室是一个相对正式、干净的空间，个人卫生问题似乎并不属于这里。然而，随着社会的发展和人们生活节奏的加快，办公室的干湿界限逐渐模糊。 一方面，办公室的干湿界限模糊化是现代社会发展的必然趋势。随着人们对生活品质的追求，越来越多的企业开始关注员工的身心健康。在这样的背景下，一些企业开始允许员工在办公室内进行简单的个人卫生处理，如洗手、换衣服等。这种做法不仅有助于提高员工的工作效率，还能让他们感受到企业的关爱。 另一方面，办公室的干湿界限模糊化也反映了人们对生活便利性的追求。在快节奏的生活中，人们希望在工作之余能够节省时间，提高生活质量。因此，在办公室内处理个人卫生问题，无疑是一种便捷的选择。 然而，在办公室干湿界限模糊化的过程中，我们也需要注意以下几点： 1. 尊重他人：在办公室内处理个人卫生问题时，要尽量减少对他人造成的影响。例如，洗手时要注意不要溅水，换衣服时要选择合适的时机和地点。 2. 保持环境卫生：在办公室内处理个人卫生问题时，要确保环境卫生。洗手后要及时擦干手，换衣服后要将衣物妥善放置。 3. 遵守公司规定：每个公司都有自己的一套规章制度，关于办公室内个人卫生问题的处理，员工应当遵守公司规定，不得擅自行动。 4. 考虑他人感受：在办公室内处理个人卫生问题时，要考虑到他人的感受。例如，在公共区域洗手时，要注意不要影响他人。 总之，在办公室干湿界限模糊化的背景下，我们既要尊重他人，又要关注自身需求。通过合理处理个人卫生问题，我们可以实现办公室的和谐共处。在这个过程中，我们还需要不断调整自己的行为，以适应不断变化的社会环境。 总之，能不能在办公室干湿你，这个问题并没有绝对的答案。在尊重他人、遵守规定的前提下，我们可以在这个问题上找到适合自己的平衡点。让我们共同努力，为创造一个更加和谐、便捷的办公环境而奋斗。

很少有公司比阿斯麦控股 ( ASML Holding ) 更能从人工智能热潮中获益。这家荷兰公司几乎垄断了用于生产数据中心高性能芯片的专用光刻机市场，而这一业务正以前所未有的速度蓬勃发展。ASML 的美国存托凭证在过去一年上涨了 11%。然而，由于受到无法保证在 2026 年保持增长 。该公司面临一个大问题。ASML 最新的极紫外光刻 ( EUV ) 设备大客户数量有限，而目前，其中一家——台积电 ( TSMC ) ——在先进芯片制造领域占据主导地位。这令人担忧，因为当芯片制造商争夺霸主地位，不断升级设备以保持领先地位时，ASML 才能蓬勃发展。ASML 目前正在销售新一代 " 高数值孔径 " EUV 机器，即 High NA EUV。它是 独家供应商 并预计这些工具将在未来十年内实现更小的芯片。然而，每台这些工具的成本可能超过 4 亿美元。台积电显然对这个价格犹豫不决。一位高管在 5 月份的一次行业会议上表示，这家芯片制造商相信可以延长其现有 EUV 光刻机的使用寿命。这家台湾公司在一封电子邮件声明中告诉《巴伦周刊》： " 当高数值孔径 EUV 技术成熟并准备好为我们的客户带来最大利益时，台积电将部署该技术。"问题归结于前期成本与运行成本。光刻系统的数值孔径衡量的是其收集光线和解析细节的能力。数值孔径越高，单次曝光就能在芯片上打印出极其复杂的结构，即所谓的单次曝光。数值孔径越低，机器需要更多步骤才能完成同样的操作，即所谓的多次曝光，但需要花费更多时间，并且引入缺陷的可能性也更大。到目前为止，多重图案技术似乎占据了上风。巴克莱分析师西蒙 · 科尔斯预计，ASML 2026 年将仅出货三台高数值孔径 ( High NA ) 光刻机，低于 2025 年的五台，而且在 2028 年之前不太可能实现大规模应用。他对该股的评级为 " 持有 "。ASML 拒绝透露其预测的 High NA 出货量，但表示其所有 EUV 客户都已承诺采用该技术。ASML 发言人在一封电子邮件声明中告诉《巴伦周刊》 ： " 高数值孔径可以以经济高效的方式释放单次曝光的优势。这些优势包括降低工艺复杂性、缩短周期、提高潜在良率等等。"英特尔看起来是 ASML 的一大希望。这家美国芯片公司目前正在为一个历史性的错误付出代价：它未能及时过渡到使用这家荷兰公司的 EUV 光刻机，导致台积电在更先进的芯片领域抢占先机。英特尔似乎有机会纠正过去的错误。前首席执行官帕特 · 基辛格去年表示，英特尔购买了两台 High NA 机器，这是其在 AI 芯片和其他先进处理器制造业务方面超越台积电的战略的一部分。但在英特尔实力减弱之际，这也带来了巨大的财务风险。Futurum Group 分析师 Ray Wang 表示："High NA 的采用并非（对英特尔而言）唯一的决定因素。成功取决于多种因素，包括掌握 EUV 使用的能力、良率学习曲线、生态系统准备情况、整体产能、成本竞争力，以及在内部产品之外获得广泛客户群的能力。"对于英特尔来说，争取芯片的外部大客户尤其困难。股东们曾希望，英特尔的 18A 制程（据报道，英伟达和博通正在测试该制程）能够帮助其从台积电手中夺回技术领先地位。然而，英特尔淡化希望赢得任何主要外部客户的进展，并表示 18A 工艺将主要用于内部产品，至少在初期是这样。英特尔还表示，如果无法赢得重要客户，可能会 " 暂停或停止 " 其下一代 14A 工艺。这可能意味着英特尔成为台积电强劲竞争对手的雄心壮志以及美国拥有本土半导体冠军企业的希望破灭。近期，英特尔将获得英伟达 50 亿美元投资的消息似乎激发了市场对其芯片制造前景的担忧。受此消息影响，ASML 股价上涨逾 6%。然而，英伟达首席执行官黄仁勋反复强调 避免回答 他称赞了台积电的能力，并询问他的公司未来是否会使用英特尔的制造设施。独立技术分析师尼古拉斯 · 巴拉特 ( Nicolas Baratte ) 表示：" 台积电生产的是世界上最复杂的芯片，也就是英伟达的 GPU。如果台积电告诉你我们不需要（高数值孔径 EUV），那么很难想象英特尔为什么需要一台比台积电复杂得多的机器来制造复杂度低得多的芯片。"英特尔向《巴伦周刊》证实，其位于俄勒冈州的主要研发基地拥有两台 High NA 机器，但拒绝透露何时打算将它们用于大规模生产。如果 ASML 不能依靠英特尔在逻辑芯片业务上说服台积电，那么一个可能富有成果的领域就是存储芯片。在采用最新光刻技术方面，存储芯片行业落后于逻辑芯片行业。这部分是由于该行业专注于低成本制造，同时也是因为存储芯片层堆叠技术能够提高密度和性能，从而减少了对 EUV 光刻机的需求。有迹象表明，这种情况可能会改变。高带宽内存 ( HBM ) 芯片是英伟达等公司最新 AI 处理器的必要组件，目前业界正在竞相生产最先进的 HBM 产品。韩国 SK 海力士是现任领导人 该公司本月早些时候表示，已经组装了一套 High NA 系统，并声称这是业内首个实现量产的系统，理由是需要为极端扩展和高密度要求做好准备。这可能会给同样来自韩国的三星电子和美国美光科技公司带来挑战。三星发言人在发给《巴伦周刊》的电子邮件声明中表示，该公司于今年 2 月采用了 High NA 系统，并将其用于其内存芯片业务和外部客户的芯片制造。美光公司尚未回应就其计划置评的请求。ASML 的例子提醒我们，如果供应商受制于某个主要客户，仅仅拥有最好的技术并不能保证成功。最终，ASML 的高数值孔径光刻机将成为必需品，但投资者可能会面临一段令人沮丧的等待，直到整个行业准备好为未来买单。参考链接：https://www.barrons.com/articles/asml-stock-tsmc-intel-ai-boom-7a4cd16e